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電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)高純氯Cl2 查看詳情

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電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)－－三氯化硼B(yǎng)Cl3 查看詳情

2006年是“十一五”計劃的開局年，也是中國集成電路產(chǎn)業(yè)繼續(xù)快速前行的發(fā)展年。2006年蘇州市新成立的集成電路企業(yè)及配套企業(yè)近20家，其中包括三星電子（蘇州）半導(dǎo)體第二工廠、晶方半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司、蘇州震坤科技有... 查看詳情

本規(guī)范的編寫將適用于集成電路/太陽能芯片生產(chǎn)廠、新型顯示器件廠（TFT/PDP廠,如上海華虹-NEC、德芯電子（昆山）有限公司）高純化學(xué)品配送系統(tǒng)管道的設(shè)計、施工及驗收。主要技術(shù)內(nèi)容包括：高純化學(xué)品（含研磨液）配送系統(tǒng)設(shè)... 查看詳情

本守則旨在就微電子工業(yè)貯存和使用特殊氣體而申領(lǐng)危險品牌照的事宜提供指引。本守則列明關(guān)于貯存所的坐落地點、設(shè)計和建造的規(guī)定（例如機械通風(fēng)系統(tǒng)、氣體偵測系統(tǒng)、滅火系統(tǒng)、電力裝置等），以及發(fā)牌當(dāng)局所訂明須遵守的相關(guān)條文。此外，... 查看詳情

針對鈾樣品在機械加工過程中殘留的幾種常見冷卻液成分:水、機油和三乙醇胺,開展了超臨界二氧化碳對鈾樣品的清洗實驗,探討了超臨界二氧化碳對鈾樣品表面常見機械加工殘留物的清洗效果,同時對經(jīng)超臨界二氧化碳浸泡的鈾樣品表面化學(xué)成分... 查看詳情

真空技術(shù)是使氣體壓強低于地面大氣壓強的技術(shù)。真空是指壓力遠小于101.325千帕（kPa）（即1大氣壓）的稀薄氣體空間。在真空技術(shù)中除國際單位制的壓力單位Pa外，常以托（Torr）作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情

真空技術(shù)是使氣體壓強低于地面大氣壓強的技術(shù)。真空是指壓力遠小于101.325千帕（kPa）（即1大氣壓）的稀薄氣體空間。在真空技術(shù)中除國際單位制的壓力單位Pa外，常以托（Torr）作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情